1.酸性廢氣凈化機(jī)器設(shè)備——噴淋塔原理

噴淋塔清潔基本原理是將汽體中的環(huán)境污染化學(xué)物質(zhì)提取，轉(zhuǎn)換為沒(méi)害化學(xué)物質(zhì)，以做到清潔汽體的目地。它歸屬于求微分觸碰倒流式，塔身體的填料是汽液兩相觸碰的基礎(chǔ)預(yù)制構(gòu)件，塔架外界的汽體進(jìn)到塔架后，汽體進(jìn)到填料層，填料層上面有來(lái)自于頂端自噴液體及前邊的自噴液體，并在填料上產(chǎn)生一層液膜，汽體流過(guò)填料間隙時(shí)，與填料液膜觸碰并開展消化吸收或綜合性反映，填料層能出示充足大的面積，對(duì)汽體流動(dòng)性又不至于導(dǎo)致過(guò)大的摩擦阻力，經(jīng)消化吸收或綜合性后的汽體經(jīng)屋脊式除霧器搜集后，經(jīng)通風(fēng)口排出來(lái)塔外。

2.芯片廠酸性廢氣簡(jiǎn)述

芯片廠在生產(chǎn)工藝流程中應(yīng)用各種各樣酸液清理、離子注入集成ic等全過(guò)程中造成HF、HCl、鹽酸霧等酸性汽體。針對(duì)芯片廠公司在生產(chǎn)工藝流程全過(guò)程中造成的腐蝕汽體（如酸、偏堿廢氣）的整治，現(xiàn)階段大多數(shù)公司選用液體消化吸收法整治，選用液體消化吸收法整治該廢氣，關(guān)鍵所在廢氣凈化機(jī)器設(shè)備的挑選。酸性廢氣整治一般選用噴淋塔，根據(jù)酸堿中和反映來(lái)清潔酸性汽體。

3.芯片廠廢氣工藝處理表明

生產(chǎn)線酸洗池有機(jī)氣體廢氣經(jīng)風(fēng)罩搜集，經(jīng)濟(jì)管理道再進(jìn)到酸性廢氣凈化機(jī)器設(shè)備，酸霧吸收塔體置放二層填料層并配備二級(jí)水浴設(shè)備，并在循環(huán)系統(tǒng)蓄水池里加氫氧化鈉溶液（通稱堿），以中合廢氣中的有機(jī)氣體，有機(jī)氣體解決塔的上方噴嘴噴出來(lái)消化吸收液分布均勻在填料上，廢氣與消化吸收液在填料表層上充足觸碰，因?yàn)樘盍系臎_擊韌性大、抗腐蝕、空隙率高、表層大的特性，廢氣與消化吸收液在填料表層有較多的觸碰總面積和反應(yīng)速度。清潔后的汽體會(huì)蘊(yùn)含水分歷經(jīng)塔上的除霧設(shè)備除去水分后立即排污空氣中。

4.酸性廢氣凈化設(shè)備的適用范圍

酸性廢氣凈化設(shè)備通常用于由電子設(shè)備，化工廠，電鍍工藝，硬件，鋁型材，電氣設(shè)備，制藥，印染廠以及其他機(jī)械加工和制造行業(yè)造成的有害廢氣，例如：硫酸 （HCI），氟化氫蒸氣，二氧化氫（HF），二氧化氮（NH3），鹽酸霧（H2SO4），鉻酸霧（CrO3），氫氰酸蒸氣（HCN），堿蒸氣（NaOH），硫化氫氣體（  H2S），F(xiàn)orma Forest溶液（HCHO）和其他水溶性蒸氣。